DB-FIB

Puolijohdeelektroniikan ja integroitujen piiriteknologioiden nopean edistymisen myötä laite- ja piirirakenteiden monimutkaistuminen on nostanut vaatimuksia mikroelektronisten siruprosessien diagnostiikasta, vikaanalyyseistä ja mikro-/nanovalmistuksesta.Dual Beam FIB-SEM-järjestelmä, jolla on tehokkaat tarkkuustyöstö- ja mikroskooppiset analyysiominaisuudet, on tullut välttämättömäksi mikroelektroniikan suunnittelussa ja valmistuksessa.

Dual Beam FIB-SEM-järjestelmäintegroi sekä fokusoidun ionisäteen (FIB) että pyyhkäisyelektronimikroskoopin (SEM). Se mahdollistaa FIB-pohjaisten mikrotyöstöprosessien reaaliaikaisen SEM-havainnoinnin yhdistämällä elektronisäteen korkean avaruudellisen resoluution ionisäteen tarkkuusmateriaalinkäsittelyominaisuuksiin.